HR Factory: employee branding
Le 9 juin 2026, près de 50 professionnels RH se sont réunis à Genève lors du deuxième atelier HR Factory de l’année pour échanger sur les atouts qui permettent de développer son réseau en interne comme en externe.

Adélaide Gorschynski (debout), Talent & Employability Specialist.
Photos: Pierre-Yves Massot / realeyes.ch pour HR Today

Céline Gaslonde, Cityus et Iris Daclin, SITA.

Caroline Frasca et Stéphanie Bounoir, Manor.

Dina Chantre, ICoCA; Delphine Beulné, CICR et Olivier Sénac.

Patricia Gonthier, Scheuchzer et Daniel Loureiro, Astural.

Nicole Fante Tchuante, Etat de Genève; Laetitia Breavoine, ID Quantique et Dimitri Guilbaud, ADP.
Le nouveau contrat de travail signé, certains employés·es arrêtent souvent de cultiver leur réseau professionnel. Cet angle mort est ensuite amèrement regretté lorsque les rapports de travail se terminent. Développer son réseau est aussi un moyen d’obtenir une promotion ou de changer de rôle à l’intérieur de l’organisation. En clair, une progression de carrière se prépare et le réseau y joue un rôle central. C’est autour de ce thème de l’Employee Branding qu’une cinquantaine de participants se sont retrouvés le 9 juin 2026 au Bird à Vernier (GE) pour un workshop HR Factory, organisé en partenariat avec l’association Executive & PA Network.
Lors d’une première conférence, Daniela Casetta, experte en réseautage, a rappelé les fondamentaux du réseautage: préparez votre pitch en amont; mettez votre profil LinkedIn à jour; observez la salle avant de vous lancer; adoptez 80% d’écoute pour 20% de parole; offrez votre soutien et proposez un café/lunch aux personnes rencontrées (si le courant est passé) la semaine suivante.
Adélaide Gorschynski, Talent & Employability Specialist, a ensuite donné ses conseils pour développer son réseau interne. Anticipez les besoins du marché; essayez d’être identifié·e comme une solution; soyez curieux·euse et contribuez aux projets de manière régulière. La règle d’or: ne demandez pas un poste, faites connaître votre projet.